LONI BAUR 
STICK No2 - HIGHLIGHTER

Ten rozświetlacz w sztyfcie błyskawicznie dodaje policzkom delikatnego, subtelnego blasku, rozświetlając je tam, gdzie są pożądane. Jego kremowa konsystencja zapewnia gładkie odczucie na skórze, a wybrane woski i olejek arganowy zapewniają dodatkową i trwałą pielęgnację. "Niezbędny - i tak łatwy w użyciu!" - Loni Baur, Founder.

Wybrane woski i olej arganowy dodatkowo odżywiają skórę.

Kremowa konsystencja nadaje spojrzeniu delikatny i naturalny blask. Wystarczy nałożyć teksturę sztyftu palcem na policzki, kości policzkowe, łuki pachowe i wewnętrzne kąciki oczu.

CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, HYDROGENATED PALM OIL, MICA, PPG-3 BENZYL ETHER MYRISTATE, CAPRYLIC/CAPRIC/MYRISTIC/STEARIC TRIGLYCERIDE, DIISOSTEARYL MALATE, CANDELILLA CERA, ETHYLHEXYL HYDROXYSTEARATE, CETEARYL BEHENATE, PRUNUS AMYGDALUS DULCIS OIL, SILICA, STEARALKONIUM HECTORITE, ORYZANOL, PROPYLENE CARBONATE, SYNTHETIC FLUORPHLOGOPITE, TOCOPHEROL, HELIANTHUS ANNUUS SEED OIL, TIN OXIDE, CI 77891, CI 77491

Nie uważamy, że produkty CLEAN są koniecznością lub odpowiedzią na każdy problem związany z pielęgnacją skóry. Chcemy jednak przedstawić krótki przewodnik dla tych, którzy chcą uniknąć niektórych składników.

Naszą koncepcję Clean Beauty definiują przede wszystkim składniki, których nie znajdziesz w produktach oznaczonych ikoną CLEAN:

BHA (butylowany hydroksyanizol), BHT (butylowany hydroksytoluen), chemiczne filtry przeciwsłoneczne, EDTA, etanoloaminy, składniki etoksylowane (Ceteareth-20, wosk emulgujący, PEGS, polysorbate-20, polysorbate-40, steareth-20, siarczany), formaldehyd, metylochloroizotiazolinon i metyloizotiazolinon, metyloceluloza lub 2-metoksyetanol, piżmo nitrowe i policykliczne, parabeny, wazelina i parafina, ftalany, rezorcynol, silikony, produkty uboczne pochodzenia zwierzęcego (z wyjątkiem lanoliny i wosku pszczelego), toluen, triklosan i triklokarban.

Ikona ta pozwala Ci od razu zobaczyć, które produkty spełniają standardy naszego przewodnika CLEAN Guide.

Przeczytaj więcej o NICHE CLEAN GUIDE w STUDIO!